EVG ? 520 HE熱壓印系統 特色：經通用生產驗證的熱壓印系統，可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統。低溫納米壓印實際價格 H...

該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據客戶的專門需求，公司對這些聚合物作出調整，使其具備其它特征。它們極其適合工業環境，在較短的生產周期時間內粘合各種微小的元件。此外，DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出。關于德路德路(DELO)是世界前列的工業粘合劑制造商，總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年，公司的780名員工創造了。該公司產品在全球范圍內廣泛應用于汽車、消費類電子產品與工業電子產品。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等...

SmartNIL是行業**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。 納米壓印設備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。本地納米壓印推薦型號 EVG610特征： ...

具體說來就是，MOSFET能夠有效地產生電流流動，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創造出了所謂的“短溝道效應”區域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通...

納米壓印設備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。 納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。 將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上，從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG紫外光納米壓印系統有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。河南納米壓印代理價格...

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板，可以實現亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現結構在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀，結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結構層和彈性基底層。（來自網絡，侵權請聯...

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板，可以實現亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現結構在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀，結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結構層和彈性基底層。（來自網絡，侵權請聯...

納米壓印微影技術可望優先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業LCD制程研發小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出...

EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和轉換工具 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG ? 620 NT附加功能： 鍵對準 紅外對準 SmartNIL μ接觸印刷技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 標準光刻：比較大150毫米的碎片 ...

EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說：“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰，幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術，我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內，我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業，企業和消費者等所有主要市場領...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統?技術，在100毫米范圍內。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNI...

EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術，提供了****的印跡形大面積 經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本 強大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術數據： 晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2） 對準：可選的...

客戶示范 ■工藝開發 ■材料測試 ■與合作伙伴共同研發 ■資助項目 ■小批量試生產 ■IP管理 ■過程技術許可證 ■流程培訓 →世界前列的潔凈室基礎設施 →**的設備 →技術** →**計量 →工藝知識 →應用知識 →與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業知識 新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。 岱美作為EVG在中國區的代理商，歡...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區域烙印覆蓋 批量生產**小40 nm或更小的結構 支持各種結構尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術數據： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

EVG ? 720自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統 自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL ?技術 EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構，具有****的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（ DOEs）。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。...

EVG610特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形誤差補償機制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG610附加功能： 鍵對準 紅外對準 納米壓印光刻 μ接觸印刷 EVG610技術數據： 晶圓直徑（基板尺寸） 標準光刻：比較大150...

EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和開發 NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。 歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設備的性能。 HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較...

EVG ? 520 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 氣動壓花選項 軟件控制的流程執行 EVG ? 520 HE技術數據 加熱器尺寸：150毫米，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60、100 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 粘合卡盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ? 620，EVG...

EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說：“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰，幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術，我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內，我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業，企業和消費者等所有主要市場領...

EVG ? 720特征： 體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 專有SmartNIL ?技術，多使用聚合物印模技術 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式 可選的頂部對準 可選的迷你環境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺 從研發到生產的可擴展性 系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

UV納米壓印光刻系統 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統 ■高精度對準臺 ■自動楔形誤差補償機制 ■電動和程序控制的曝光間隙 ■支持***的UV-LED技術 ■**小化系統占地面積和設施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材 ■體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 ■專有的SmartNIL?技術和多用途聚合物印章技術 ■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動處理以及...

EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術數據： 加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米 比較大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：單芯片，100毫米 比較大接觸力：10、20、60 kN 比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C 夾盤系統/對準系統 150毫米加熱器：EVG ? 610，EVG ...