倒空間

藥物：從藥物發(fā)現(xiàn)到藥物生產(chǎn)，D8D為藥品的整個生命周期提供支持，其中包括結構測定、候選材料鑒別、配方定量和非環(huán)境穩(wěn)定性測試。地質學：D8D是地質構造研究的理想之選。借助μXRD，哪怕是對小的包裹體進行定性相分析和結構測定也不在話下。金屬：在常見的金屬樣品檢測技術中。殘余奧氏體、殘余應力和織構檢測不過是其中的一小部分，檢測目的在于確保終產(chǎn)品復合終用戶的需求。薄膜計量：從微米厚度的涂層到納米厚度的外延膜的樣品都受益于用于評估晶體質量、薄膜厚度、成分外延排列和應變松弛的一系列技術。D8D和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進行薄膜分析：掠入射衍射、X射線反射率測量。倒空間

對分布函數(shù)分析對分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術，它基于Bragg衍射以及漫散射（“總散射”），提供無序材料的結構信息。其中，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結構的信息（即長程有序），通過漫散射，表征其局部結構（即短程有序）。就分析速度、數(shù)據(jù)質量以及對非晶、弱晶型、納米晶或納米結構材料的分析結果而言，D8ADVANCE和TOPAS軟件是目前市面上性能較好的PDF分析解決方案：相鑒定結構測定和精修納米粒度和形狀。遼寧檢測XRD衍射儀在DIFFRAC.LEPTOS中，進行晶片分析：分析晶片的層厚度和外延層濃度的均勻性。

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距，nm；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距，nm。為實際石墨試樣（002）晶面間距，nm。實例不同石墨的石墨化度為了準確的確定值或(002)峰的峰位，需要在樣品中加入內標以校準。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范，用硅作為內標物，加入待測石墨樣品中，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復合材料具有高溫下不熔融、導電導熱性能好以及化學穩(wěn)定性優(yōu)異等特點，應用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質量對電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結構上表征石墨質量的方法之一。

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進一步提供了光束調節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質量、殘余應力、織構分析、厚度測定以及組分與應變分析。在對薄膜和涂層進行分析時，著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進行以下高質量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。定性相分析和結構測定 微米應變和微晶尺寸分析 應力和織構分析 粒度和粒度分布測定 微米大小X射線束局部分析。

D8DISCOVER應用范圍材料研究殘余應力分析、織構和極圖、微區(qū)X射線衍射、廣角X射線散射（WAXS）XRD可研究材料的結構和物理特性，是重要的材料研究工具之一。D8DISCOVER就是布魯克推出的、用于材料研究的旗艦款XRD儀器。D8DISCOVER配備了技術超過的組件，可為您帶來較好的性能和充分的靈活性，同時讓研究人員對材料進行細致入微的表征：定性相分析和結構測定微米應變和微晶尺寸分析應力和織構分析粒度和粒度分布測定使用微米大小的X射線束進行局部XRD分析倒易空間掃描在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同不，然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結果。貴州實驗室檢測XRD衍射儀

從過程開發(fā)到質量控制，D8 DISCOVER可以對亞毫米至300mm大小的樣品進行結構表征。倒空間

所有維度都非常好的數(shù)據(jù)質量不論在何種應用場合，它都是您的可選的探測器：高的計數(shù)率、動態(tài)范圍和能量分辨率，峰位精度布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976c）整個角度范圍內的準直保證，面向未來的多用途采用了開放式設計并具有不受約束的模塊化特性的同時，將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設計，布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設計極大地簡化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進行自動切換。該系統(tǒng)無需人工干預，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進行切換，且無需人工干預，是在環(huán)境下和非環(huán)境下對包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在內的所有類型的樣品進行分析的理想選擇。倒空間